編號:	g26		  課 程 綱 要
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      一、【開課系所】: 材料所 	   學系(所)
      二、【開課年級】: 碩1 年級
      三、【修別】: 選   修
      四、【科目名稱】(中文):超大型積體電路製程
		      (英文):VLSI Processing Technology 
      五、【先修科目】:
      六、【學分數】  :上學期    學分,下學期  3	學分
      七、【授課時數】:(正課)  3 小時,(實習)	小時
      八、【教學目的】: 培養學生對現代積體電路製造步驟之通盤了解及興趣，
　　　　　　以及對半導體製程上安全之了解．　　　

      九、【內容綱要】:
　　　　　　1.Historical overview
            2.Processing overview 
            3.Starting Materials
            4.Oxidation
            5.Diffusion
            6.Ion Implanntation
            7.Metallization
            8.Chemical vapor deposition - nucleation and growth of thin
              solid film   
            9.Lithographic Tools
           10.Resist systems and exposure Modeling
           11.Pattern transfer
           12.Future processing technique and in-situ processing
           13.Yields and Yields Analysis

      十、【其他】:(如參考書目..等)