副標題 |
穿透式電子顯微鏡試片準備用,除了高分子材料及高揮發性或低耐熱性材料外,其餘固態材料均適用。
離子束能量: 2 KeV to 6 KeV
打薄角度: +10o to -10o
離子束直徑: 350 μm FWHM at 5 KeV to 800 μm for Broad Beam
離子電流密度 : 10 mA/cm2 Peak
試片尺寸 : φ3 mm or φ2.3 mm
試片旋轉: 1 to 6 rpm
操作模式 : Single or double sector for exceptional cross-sectioning
放大倍率 : 40X or 80X
真空度 : Dry Pumping System Molecular drag pump backed by a 2-Stage diaphragm pump, 5E-6 Torr 背壓,8E-5 Torr 操作
主要附件 : Specimen Mounting and Tweezers
注意事項 :
1.試片表面不可有任何熱熔膠或AB膠或G1膠。
2.操作時 ION BEAM MODULATOR 不可以切到 OFF。
3.最小離子打薄角度不可小於 4o。
4.ION GUN GAS FLOW CONTROL 上的任何開關或旋鈕勿動。
5.關 ROTATION 及 ION GUN 時,不要切到 OFF,只要轉到底即可。 |