名稱 離子打薄機(PRECISION ION POLISHING SYSTEM)
副標題 穿透式電子顯微鏡試片準備用，除了高分子材料及高揮發性或低耐熱性材料外，其餘固態材料均適用。 離子束能量: 2 KeV to 6 KeV 打薄角度: +10o to -10o 離子束直徑: 350 μm FWHM at 5 KeV to 800 μm for Broad Beam 離子電流密度 : 10 mA/cm2 Peak 試片尺寸 : φ3 mm or φ2.3 mm 試片旋轉: 1 to 6 rpm 操作模式 : Single or double sector for exceptional cross-sectioning 放大倍率 : 40X or 80X 真空度 : Dry Pumping System Molecular drag pump backed by a 2-Stage diaphragm pump, 5E-6 Torr 背壓，8E-5 Torr 操作 主要附件 : Specimen Mounting and Tweezers 注意事項 : 1.試片表面不可有任何熱熔膠或AB膠或G1膠。 2.操作時 ION BEAM MODULATOR 不可以切到 OFF。 3.最小離子打薄角度不可小於 4o。 4.ION GUN GAS FLOW CONTROL 上的任何開關或旋鈕勿動。 5.關 ROTATION 及 ION GUN 時，不要切到 OFF，只要轉到底即可。
說明 http://www.mse.nchu.edu.tw/download.php?filename=169_3a296e69.rar&dir=archive&title=+%E9%9B%A2%E5%AD%90%E6%89%93%E8%96%84%E5%84%80%28Gatan+691%29
編號 材料系公共儀器
可供預約 No
Purchase Date 2002-12-10
管理人 薛富盛
管理人聯絡電話 04-22840500-188
位置 MB-08